184半导体的困境-《黑科技从钢铁战衣开始》


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    而且欧美也不会眼睁睁地看着你实现技术突破的,他们也会集中力量展开一场声势浩大的半导体领域的科研竞赛…绝对不会让你在这个领域实现超越的。

    众所周知,攻擂比守擂要难得多,也更加消耗人力物力,那么他们真的做好准备打这一仗了吗?答案是否定的,最起码以他的地位没有得到什么消息。

    再加上他们的人才更多,更牛,科研资金更加充沛…所以难度非常高。而且很多的技术不是你实现了攻关就可以使用的,还涉及到专利的问题。

    大家虽然没办法去把蘑菇蛋申请一个专利,没办法给航母和飞机申请一个专利,但是光刻机的专利确实可以申请,而且专利费还很贵!

    这东西跟航母、战斗机不一样。航母,战斗机你就算仿造别人的也没法起诉侵犯专利。光刻机你要是用同样的原理,光是赔专利侵权就要倾家荡产。

    至于asml现阶段的技术,就算华国造出一模一样的东西来,还有专利的麻烦在那里,要规避这一堆专利而商业化几乎做不到,那一整条半导体联盟的市值有几万亿美元,他们所组成的专利护城河几乎是亚马逊河那种级别的。

    所以,如果从大的笼统的方面来说,华国用新的芯片制造技术超越台积电还是可能的,但是道路却是极为曲折的。

    大家可能对所谓芯片制造不太了解。这么说吧,如果欧洲一夜之间蒸发了,老美想要重新造出性能相似的光刻机来,至少需要五年!

    从这里看,那一帮子老牌贵族还是有点东西的,不像我们这里的正黄旗,只剩下了几尺又臭又烂的裹脚布,纯粹恶心人。

    所以华国要造新型euv光刻机并不是华国单挑老美,而是华国单挑外国!别的不说,高性能的滤光片,对极端紫外线高反射率的镀膜,耐用的商业激光器……没有一个是华国自己能够造出来的!更确切的说,不是华国造不出来,而是老美有很多也造不出来!

    镀膜、滤光片、半反半投镜……这些技术低性能也就罢了,高性能的产品都是一年一年试出来的,欧洲起步早,试验的多就是世界最强!

    华国起步晚,短时间内就是造不出来。因为,没有这些基础器件,谈造euv光刻机就是天方夜谭!

    所以造光刻机跟造航母不一样,航母并没有在全球的产业链里面。而光刻机是全球产业链整合出来的产品。针对华国的技术封锁如果没有松动,需要重复做的事情太多,绝非十年二十年,靠华国单打独斗能成的。

    而在十几年二十几年之后,你攻克的产品也已经过时了,人家又有更好的产品了,你依然还是落后…

    这大概就是马太效应了,强者恒强!

    假如大家还觉得市场、钱、政策能够***式地造出光刻机,那就是绝对错误的认识,国家那么多专家组成的智囊团,绝对不是摆设,如果有利的事情,国家绝对不会去做,如果没有,那大概就是得不偿失,利益不够吸引人,付出与收获不成正比。

    当然euv作为新一代的技术能够实现7nm、5nm的光刻,虽然更加先进,但是如果真的台积电被迫不能给华国代工,我们依然可以使用老一点的技术。使用老一点的技术也足以保证国内正常的需要。这也是为什么国家在这个领域没有那么大的动力和决心的一个原因。

    至于手机和电脑等等商用的芯片,既然自己制造比买的要贵得多,而且性能还比不上人家,那么就只能先紧着军用和科研使用了…这也是和世界接轨需要承受的代价之一吧。

    总之呢,euv光刻机可以看作是美元霸权的衍生品。美元霸权还在,华国就无法在这一领域取得重大突破。当且仅当euv光刻机所需的基础配件能够自由进口到华国的时候,华国才有可能在这个领域有突破。

    最后,我再强调一个概念!可以商用化的产品跟实验室里能够实现之间差了十万八千里!实验室里实现的意思是不考虑成本,不考虑稳定性,能够有那么一次或者两次做成。

    商用产品的概念是:稳定、高效、可控、能赚钱!

    就euv光刻机来说,华国做得最好的大概是长春光机所,也就是搭建了一套实验室的euv光源设备,而且从技术的实现来看,他们选择了另外一条技术路线,euv输出的可控性必然不足,商业化依然有巨大瓶颈。

    总之呢,如果技术不革新,这一块儿华国想要后来者居上几乎做不到。至于三星和台积电,它们是使用euv光刻机的厂商,如果大陆都没有足够的euv光刻机可用,谈什么收回国内市场,超过他们呢?


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